科学系ニュース 半導体前工程:ビアホールの銅充填 銅充填とは何か?ダマシン法はどんな方法なのか?
半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。ビアホールの銅による充填は上下の配線層を電気的に接続する工程です。ビアホールの充填は穴を形成し、バリアメタル層と銅シード層を成膜し、その後、電解めっきでボイドなく銅を埋め込み、最後にCMPで余分な銅を除去し平坦化することで行われます。銅による充填の方法、特に電界めっきでの充填方法を知ることができます。
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