半導体

東京エレクトロンがベルギーに本拠を置く半導体研究開発機関であるimec（アイメック）との提携を延長すると発表しました。imecとは：ベルギーに本拠を置く、ナノエレクトロニクスおよびデジタル技術分野の世界的な独立系研究開発機関で、半導体産業全体の発展を牽引する存在です。imecとは何か、どのような実績があるのかを知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。ドライエッチングはウェットエッチングより微細加工性に優れ、垂直なパターン形成（異方性エッチング）が可能で、現代半導体の微細化に不可欠な技術です。ドライエッチングとは何か、なぜ異方性が重要なのか、どのような化学反応が起きているのかを知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。エッチングは、フォトリソグラフィによって形成されたレジストパターンを利用して、半導体基板上の不要な薄膜を除去する重要なプロセスです。ウェットエッチングに用いられる装置の概要や特性、有力メーカーを知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。エッチング工程はレジストパターンをマスクとして、その下の薄膜を選択的に除去し、回路を形成する工程であり、：液体薬液を使うウェットエッチングと、プラズマを使うドライエッチングがあります。ウェットエッチングとは何か、どのような薬液が使用されるのかを知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。現像工程で用いられる現像液には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどが用いられています。現像液に必要な働きや、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの優れている点、有力なメーカーについて知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。現像の工程は露光工程で、ウェハ上のフォトレジスト膜に形成された「潜像」を実際の回路パターンに形成する工程で、微細な回路を形成するために重要な工程です。現像の工程はどのようなものがあるか、現像の手法であるスピン現像が優位である理由について知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。EUV露光機はフォトリソグラフィの露光工程において、極めて短い波長を使用することで微細化を実現できる技術であり、最先端半導体に欠かすことができません。従来の装置とEUV装置の違い、唯一のメーカーであるASMLが独占できている理由を知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。EUVは極端紫外線であり、波長が短いほど、微細化可能であることもあり、半導体の微細化に必須の技術になっています。EUVをどのように発生させるのか、発生させる際にスズが利用される理由は何かを知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。露光工程はその精度を高めることで、微細な回路を形成できるため非常に重要な工程です。露光工程に使われる光源はその波長が短いほど微細化できることもあり、より短い波長の光の適用が検討されてきました。どのような光源があり、なぜ波長が短いほど微細化できるのかを知ることができます。

半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。フォトマスクは微細な回路パターンをウェーハ上に転写するフォトリソグラフィで「原版」または「型」となるもので、微細化の進む半導体で重要になっている材料です。フォトマスクの構成や重要度、有名なメーカーはどこかなどを知ることができます。