科学系ニュース オキサイドの溶液法によるSiC半導体基板の試作溶液法の特徴は何か?なぜ、SiC基板の作成が可能になったのか?
オキサイドは、従来の昇華法に代わる「溶液法」という新製法を用いて、SiC半導体基板の試作に成功しました。溶液法のメリットやなぜ溶液法での作成が可能になったのかを知ることができます。
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