トリケミカル研究所の業績下方修正 下方修正の理由は？どんな製品を扱っているのか？

この記事で分かること

トリケミカル研究所の業績下方修正

　トリケミカル研究所は、2026年1月期の連結業績予想を下方修正しました。修正後の純利益は48億円で、前回予想の50億円から3%減となる見込みです。

https://kabutan.jp/news/?b=k202508290006

この下方修正は、中間決算が好調だったにもかかわらず発表されました。ただし、年間を通しては依然として増収増益の予想は維持しています。

トリケミカル研究所はどのような半導体製造化学品を製造しているのか

　トリケミカル研究所は、主に以下のような半導体製造に不可欠な超高純度化学薬品（ウルトラファインケミカル）を開発・製造しています。その製品は、半導体の製造工程における様々な用途で使われています。

• 絶縁膜用材料:
  • High-k（高誘電率）材料:
    • トランジスタのゲート絶縁膜やDRAMのセルキャパシタなどに使われる、非常に高い誘電率を持つ材料です。従来のシリコン酸化膜に比べて薄くしても高い絶縁性を保つことができ、半導体のさらなる微細化、高性能化、低消費電力化に不可欠な材料として特に主力製品となっています。
    • 具体的には、アルミニウム（Al）、ハフニウム（Hf）、ジルコニウム（Zr）などの化合物が中心です。
  • Low-k（低誘電率）材料:
    • 半導体チップ内の配線間での信号遅延やクロストークを防ぐための絶縁膜材料です。
• 配線用材料:
  • バリアメタル材料:
    • 配線材料が周囲の層に拡散するのを防ぐための材料で、タンタル（Ta）やチタン（Ti）などの化合物が使われます。
  • シード層用配線材料:
    • アルミニウム（Al）、モリブデン（Mo）、タングステン（W）などの化合物が使われます。
• エッチング用材料:
  • 半導体基板の不要な部分を除去するために使われる化学薬品です。

　これらの化学薬品は、主にALD（原子層堆積）やCVD（化学気相成長）といった成膜技術で使用されます。同社は、年間数百種類に及ぶ製品を少量から大量まで、顧客のニーズに合わせてオーダーメイドで供給する「ウルトラファインケミカル」メーカーとしての強みを持っています。

トリケミカル研究所は、主に半導体製造に不可欠な超高純度化学薬品（ウルトラファインケミカル）を製造しています。特に、半導体の高性能化に欠かせない高誘電率（High-k）材料や、配線用、エッチング用などの化学品を主力としています。

高い誘電率を持つ材料が必要な理由はなにか

　半導体、特にトランジスタの微細化を進めるために、非常に高い誘電率を持つ材料（High-k材料）が必要です。これは、従来のシリコン酸化膜では解決できない二つの大きな課題を克服するためです。

ゲート絶縁膜の薄膜化とリーク電流の増大

　トランジスタの性能を向上させるには、ゲート絶縁膜を薄くする必要があります。

　しかし、従来のシリコン酸化膜（SiO₂）をナノメートルレベルまで薄くすると、量子トンネル効果によって電子が絶縁膜をすり抜けて漏れ出すリーク電流が増大します。これにより、デバイスの消費電力が増え、発熱も大きくなります。

High-k材料の役割

　High-k材料は、従来のシリコン酸化膜よりも誘電率が非常に高いという特性を持っています。これにより、同じ静電容量（電気を蓄える能力）を維持しながら、ゲート絶縁膜の物理的な厚さを厚くすることができます。

• リーク電流の抑制: 物理的に膜を厚くすることで、電子がすり抜けるのを防ぎ、リーク電流を効果的に抑制します。
• 半導体の高性能化・低消費電力化: リーク電流が減ることで、消費電力が削減され、デバイスの動作が安定し、性能が向上します。

　このように、High-k材料は半導体の微細化と高性能化の両立に不可欠な役割を果たしています。

半導体の高性能化と微細化を両立させるためです。従来の材料を薄くすると、電流が漏れ出すリーク電流が増大します。高誘電率材料は、物理的に厚くしても同等の性能を維持できるため、リーク電流を抑制します。

下方修正、利益減少の理由は

　トリケミカル研究所が2026年1月期の業績予想を下方修正し、純利益が減少する主な理由は、特定の中国主要顧客における材料消費量の減少と、それに伴う顧客の在庫水準引き下げです。

具体的には、以下の点が挙げられています。

特定の中国主要顧客における材料消費量の減少

　半導体市場全体は堅調に推移しているものの、同社の主要な顧客である中国の企業が、半導体の製造プロセスを効率化した結果、生産量に対して使用する材料の消費量が想定よりも大幅に減少する見込みとなりました。

顧客の在庫水準引き下げ

　 上記の生産効率化と連動して、顧客側が過剰な在庫を抱えないように、在庫水準を低く保つ方針に転換しました。これにより、トリケミカル研究所からの高誘電率材料（High-k材料）の出荷が想定を下回ることになったのです。

　この下方修正は、中間決算が売上高・営業利益・純利益ともに前年同期比で大幅な増益を達成していたにもかかわらず発表されました。しかし、通期の連結業績予想としては、依然として増収増益の予想を維持しています。

　今回の下方修正は、特定の顧客の生産体制変更という一時的な要因が大きく影響していると考えられます。

トリケミカル研究所の下方修正は、特定の中国主要顧客が半導体生産を効率化し、材料消費量が減少したことが主な理由です。これにより、高誘電率材料（High-k材料）の出荷が想定を下回り、顧客の在庫水準引き下げも影響しています。

今後の見通しはどうなのか

　トリケミカル研究所の今後の見通しについては、今回の下方修正は特定の顧客要因による一時的なものであり、中長期的には引き続き成長が見込まれています。その背景には、半導体市場の構造的な成長と、同社の強みがあります。

1. 中期的な成長戦略

• 主力製品の高誘電率（High-k）材料の需要拡大:
  • 半導体の微細化は今後も進むため、High-k材料の需要はますます高まると予想されます。AIやIoT、5Gといった新たな技術の普及に伴い、高性能で低消費電力の半導体への需要は引き続き堅調です。
  • 同社は、High-k材料に加え、配線用やエッチング用といった幅広い製品群も拡大していく計画です。
• 生産能力の増強:
  • 国内外の需要増に対応するため、山梨県南アルプス市に新工場を建設し、生産能力を増強しています。早期の立ち上げと出荷開始を目指しており、これが今後の成長を支える基盤となります。
• 研究開発の強化:
  • 次世代半導体向けの新材料開発に注力しています。半導体メーカーや製造装置メーカーとの連携を密にし、常に顧客のニーズを先取りした製品を提供することで、高い競争力を維持する方針です。

2. 半導体市場全体の動向

• 構造的な成長:
  • 半導体市場は、AI、データセンター、自動車、スマートフォンなど、幅広い分野での需要拡大に支えられ、今後も成長が続くと見られています。
• 特定の顧客に依存するリスク:
  • 今回の業績修正は、特定の顧客における生産効率化が原因でしたが、このことは、特定の顧客や製品への依存度が高い場合の潜在的なリスクを示唆しています。しかし、同社は多角的な製品展開と海外市場への拡大を図ることで、リスク分散を進めています。

短期的な変動はあり得るものの、トリケミカル研究所の事業の根幹は、半導体の技術革新に不可欠な高付加価値の特殊化学品にあります。半導体市場の構造的な成長に加え、積極的な生産能力増強と研究開発投資によって、中長期的には成長軌道に乗ると考えられています。