科学系ニュース ドライアッシングとは何か?どのようなガスが使用されるのか?どのように除去が進むのか?
半導体の重要性が増す中で、前工程装置は世界的に成長が続いています。ドライアッシングは不要となったレジストを、プラズマ中の活性種(主に酸素ラジカル)と反応させ、揮発性ガスとして除去する乾式プロセスです。ドライアッシングとは何か、どのようなメリットがあり、どのような反応が起きているのかを知ることができます。
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