科学系ニュース 半導体後工程:ウエハの直接接合における洗浄方法
半導体製造において前工程から後工程へと性能向上開発の主戦場が移り始めています。ウエハの直接接合では、清浄化とプラズマ活性化で表面を整える工程が不可欠です。洗浄、活性化の方法や湿式化学処理について知ることができます。
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